一台EUV光刻机每年要消耗1000万度电,TSMC还得为电费发愁。

新闻数据2023-01-08 04:21:5851data

在大多数人的认知中,决定芯片工艺的是EUV光刻机,是技术。 毕竟7nm以下的工艺,必须使用EUV光刻机。 如果ASML不卖给你,“巧匠会让无米之炊变得困难”。 但你有没有想过,电力其实也是半导体竞争的重要一环? 如果电力供应跟不上,即使EUV光刻机空着,技术空着,也无法演戏。

EUV的耗电量是多少? 由于EUV光源的能量转换效率为0.02%左右,输出为250W的EUV光刻机实际上需要0.125万千瓦的电力,消耗电力是DUV光刻机的10倍以上。 这样,一台EUV的年耗电量将达到1000万千瓦时。 更重要的是,EUV光源的能量转换率为0.02%,其他99.98%的电力受热散热,需要很多设备进行冷却散热,这还需要电力。

一台EUV光刻机每年要消耗1000万度电,TSMC还得为电费发愁。

根据台湾积体电路制造的数据,2021年的能源消费量为191.9亿度,约占台湾的7.2%。 深圳居住着1800万人口,2021年居民用电也不过165.5亿度左右。 这意味着台湾积体电路制造的用电可以让深圳居民使用一年。 另一方面,台湾积体电路制造2021年拥有近80台EUV光刻机,这80台EUV光刻机直接消耗8亿度电力,加上间接使用量(散热等设备),仅光刻机相关使用量就超过10亿度,占该191.9亿度电力的5%。 考虑到台湾积体电路制造发展到5nm、3nm,需要更多的EUV光刻机,将来这种功耗会增加。

因此,目前台湾省内不少媒体对台湾积体电路制造也不满意,认为对岛内台湾积体电路制造的扶植过于过度。 毕竟,台湾省幅员辽阔,能源有限,但台湾积体电路制造高能耗、高耗水量,引起居民用电、水电紧张。 同时,当前台湾省自身资源紧张、供电紧张,新增电量多向台湾积体电路制造倾斜,未必能满足台湾积体电路制造未来产能扩张的需要,未来担忧加剧。 因此,台湾积体电路制造也在努力想办法。 比如自己去买电厂,解决供电问题,直接和一些电厂签订采购合同,保证供电,把产能转移到美国等地,缓解供电危机,但每年190亿度以上的电力需要100亿元以上的电费,台湾积体电路制造也很头疼而且很明显,将来随着工艺的推进,EUV光刻机会增加,功耗会增加,电力也会成为半导体的竞争力……供电跟不上,半导体的生产能力和竞争力也会受到影响。

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